Prefeitura de Luz-MG abre cadastro reserva em processo seletivo


terça-feira, 22 de janeiro de 2019,

apostilas para concursos públicos

A Prefeitura de Luz, em Minas Gerais, divulgou abertura de cadastro reserva através do processo seletivo regulado pelo Edital nº 001/2019. O documento saiu no Diário Oficial dos Municípios Mineiros, Ano X, Nº 2424, a partir da página 142.

Estão sendo disponibilizadas as funções de Agente de Saúde 2 - Recepcionista; Assistente de Serviços Urbanos I – Motorista; Auxiliar de Serviços Urbanos I – Faxineira; Cirugião Dentista de Estratégia de Saúde da Família; Técnico Médio de Saúde 2 – Oficineiro; Técnico Médio de Saúde 2 – Técnico em Higiene Dental; Técnico Superior - Biólogo; Técnico Superior de Saúde 2 - Bioquímico/Farmacêutico; Técnico Superior de Saúde 2 - Médico Veterinário; Técnico Superior de Saúde 2 - Enfermeiro e Técnico Superior de Saúde 3 – Professor de Educação Física.

As inscrições serão gratuitas e realizadas, presencialmente, no Centro Administrativo Municipal, situado à Av. Laerton Paulinelli, 153 – Bairro Monsenhor Parreiras – Luz / MG, no período de 4 a 8 de fevereiro de 2019, no horário das 13 às 17 horas.

As Provas Objetivas de Múltipla Escolha e a Prova Prática serão realizadas no dia 23 de março de 2019, em local e horários a serem divulgados. O candidato deverá se informar sobre o local e do horário de realização das provas a partir do dia 13 de fevereiro de 2019, através dos endereços eletrônicos: www.diariomunicipal.com.br/amm-mg e www.luz.mg.gov.br, ou no Serviço de Administração de Recursos Humanos, situado no Centro Administrativo Municipal, na Av. Laerton Paulinelli, 153 – Monsenhor Parreiras – Luz/MG.

O resultado final será publicado nos sites www.diariomunicipal.com.br/amm-mg e www.luz.mg.gov.br, além de ter divulgação no Serviço de Administração de Recursos Humanos, na Av. Laerton Paulinelli, 153 – Monsenhor Parreiras – Luz/MG.

O prazo de validade do presente Processo Seletivo é de 2 (dois) anos, contados da data de homologação do resultado final.